PVD涂层与其他表面处理的比较1、CVD简介（Chemical Vapor Deposition——化学气相沉积）（1）将各种化学反应物质：如四氯化钛（TiCl4）和甲烷（CH4）等含碳气体（或其它碳氮气体）蒸气等通入反应炉体内，在高温（900~1200℃）状态下，TiCl4中的钛（Ti）和碳氢化合物中的碳（C）在模具表面进行化学反应，从而生成一层金属化合物涂层碳化钛（TiC）。利用不同的反应物，可得到不同的薄膜，如TiN、Ti（CN）、CrC等等。（2）CVD的优点： ①镀膜与基材的附着性优良； ②复杂的形状都可以处理：如深孔、内管、细缝等。（3）CVD的优点： ①镀膜温度太高，对基材和反应设备的耐热性要求很高，很多工件难以承受； ②高温使基材尺寸变化和变形严重，故适于精密度高的工件； ③对于要求工件局部镀膜，难以实现； ④活泼性气体源的使用，制程中有爆炸、毒性气体泄漏等隐患，且对环境有污染。2、TD简介（Thermal Diffusion Coating Process——热扩散法碳化物覆层处理）（1）在空气炉或盐槽中放入一个耐热的坩埚，将硼砂放入坩埚加热熔化至800~1200℃，然后加入相应的碳化物形成粉末（如钛、钡、铌、铬），再将钢或硬质合金工件放入坩埚中浸渍保温1~2小时，加入元素将扩散至工件表面并与钢中的碳发生反应形成碳化物层（如：VC—碳化钒；CrC—碳化铬），所得到的碳化物层具有很高的硬度和耐磨性。（2）TD***主要适合于以下铬钢的工件